De samples die we onlangs toonden op onze demo stand op het Future Summits congres zullen gepresenteerd worden op twee congressen binnenkort. We illustreren hoe dure CMOS processen met een beperkter aantal stappen kunnen gerealiseerd worden door nanoimprint lithografie. We vergelijken beide samples op optische performantie voor multispectrale beeldvorming.
De projectie met de demo-setup links toont een “die” (chip) van een wafer geproduceerd met standaard CMOS technologie. Het rechtse sample is het equivalent gemaakt met nanoimprint lithografie. De kleurverschillen tussen beide samples vallen te verklaren door verschillen in de laagdiktes tussen beide samples, wat momenteel verder geoptimaliseerd wordt.
Deze plasmonische kleurenfilters zullen besproken worden op een presentatie op verzoek op de NIL Industrial day 2022 die georganiseerd wordt als een online congres dit jaar. Mijn presentatie getiteld “Plasmonic multispectral color filters by self-aligned nano-imprinted gratings” zal de afsluitende presentatie zijn op het congres op woensdag 15 Juni.
Dezelfde resultaten zullen eveneens gepresenteerd worden op het Optica Advanced Photonics Congress dat in Maastricht (en online) plaatsvindt van 24 tot 28 Juli. Mijn presentatie daar draagt de titel “Multispectral color filters based on self-aligned dual plasmonic gratings fabricated by nano-imprint lithography“. Daarnaast zal een van de doctoraatstudenten die ik begeleid, Anabel De Proft haar meest recente onderzoek presenteren rond sub-golflengte schakelbare elementen in phase-change materialen (PCMs) voor holografische toepassingen. Haar presentatie is getiteld “Phase-Change Material Anisotropic Scatterers for Nano-Scale Half-Wave Plates at Visible and NIR Wavelengths“. De exacte data voor de presentaties moeten nog bevestigd worden en zullen hier toegevoegd worden van zodra deze bekend zijn.